光刻機是積體電路生產的最關鍵的裝置之一◕◕▩☁▩,在整個生產過程中佔據重要的地位☁·↟₪☁。高精度的工作臺作為光刻機核心部件之一◕◕▩☁▩,其運動效能和定位精度決定了光刻工藝所能實現的線寬和產率☁·↟₪☁。
光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺◕◕▩☁▩,其中X/Y向運動臺是最核心的基礎工序☁·↟₪☁。管控XY軸角度Yaw和Pitch◕◕▩☁▩,直線度Horizontal Straightness和Vertical Straightness是獲得XY線性(重複)精度(Linear Positioning)的關鍵◕◕▩☁▩,是後續實現六自由度的控制的基石◕◕▩☁▩,是多層曝光對準精度的源頭☁·↟₪☁。
本次檢測一臺光刻機XY軸的角擺和直線度◕◕▩☁▩,部分結果如下╃✘│✘↟:
Y軸Vertical Straightness測量
X軸Pitch測量
X軸測量軸長225mm◕◕▩☁▩,其中垂直直線度測得結果0.58μm☁·↟₪☁。
Y軸測量軸長600mm◕◕▩☁▩,測得角度Yaw結果0.86″☁·↟₪☁。
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